半導体製造向けに、超低露点乾燥、高精度ろ過、PLC遠隔監視、冗長設計による安定したクリーンエアソリューションを提供します。
業界の課題
微量水分によるチップ不良:半導体製造では圧縮空気中の水分含有量を極めて低く抑える必要があり、微量の水分でもチップの酸化、短絡、歩留まりの大幅な低下を引き起こします。
オイルミスト汚染がウェハ品質に影響:圧縮空気中のオイルミストがウェハ表面に付着すると、露光やエッチング工程で欠陥が発生し、製品品質に深刻な影響を及ぼします。
粒子状異物による回路短絡:微粒子(≥0.1μm)はチップ内部回路の短絡や断線を引き起こす可能性があるため、極めて厳格な清浄度管理が求められます。
24時間365日連続稼働の信頼性:半導体工場は通常24時間365日稼働しており、設備故障やエア供給の変動は生産ライン全体の停止につながり、甚大な損失を招きます。
ソリューション
超低露点の複合乾燥システム:複合式エアドライヤーにより、-40℃の圧力露点を安定して出力し、半導体製造における厳しい超低水分エア要件に対応します。
オールステンレス製高精度ろ過システム:ろ過精度0.01μmのステンレス製ハウジング精密フィルターを搭載し、オイルフリー・ダストフリー・微生物フリーのクリーンエア供給を実現します。
PLCインテリジェント制御&遠隔監視:RS485通信インターフェース対応のPLC制御システムを搭載し、遠隔監視、故障自己診断、警報機能を実現し、無人運転に対応します。
冗長設計&無停止エア供給:重要工程にはN+1または冗長構成を採用し、シームレスな切替により半導体ラインの連続生産を確保します。
推奨製品
複合式エアドライヤー—DM110ZHMR
マイクロヒーテッド吸着式エアドライヤー—DM15MR / DM40MR
冷凍式エアドライヤー—DM026APF / DM026GF
ステンレス製精密フィルター
お問い合わせありがとうございます。必要な空気条件(流量/圧力/露点)をお知らせいただければ、最適なソリューションをご提案いたします。